[发明专利]通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法

摘要

公开了一种通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法。所述方法可以包含：使所述衬底与包括金属有机前体的第一气相反应物接触，所述金属有机前体包括选自由以下组成的群组的金属：铂、铝、钛、铋、锌和其组合。所述方法还可以包含：使所述衬底与包括四氧化钌的第二气相反应物接触，其中所述含钌膜包括钌‑铂合金或三元氧化钌中的至少一种。还公开了包含通过本发明的方法沉积的含钌膜的装置结构。