[发明专利]等离子体装置、等离子体生成方法在审
| 申请号： | 201880091211.7 | 申请日： | 2018-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111886934A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 神藤高广 | 申请（专利权）人： | 株式会社富士 |
| 主分类号： | H05H1/32 | 分类号： | H05H1/32;H05H1/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨青;安翔 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的课题是能够高效地生成等离子体。在本公开的等离子体装置中，包括电介质屏障放电器和电弧放电器，在被供给用于生成等离子体的气体的放电空间内，在比电介质屏障放电器靠下游侧处设置电弧放电器。在电介质屏障放电器中发生电介质屏障放电，在电弧放电器中发生电弧放电。在电介质屏障放电中使用于生成等离子体的气体活性化，因此在电弧放电中能够使前述的气体良好地等离子体化。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 装置 生成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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