[发明专利]用于使多束照射系统对准的方法有效
| 申请号： | 201880091414.6 | 申请日： | 2018-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111867754B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·布吕克 | 申请（专利权）人： | SLM方案集团股份公司 |
| 主分类号： | B22F10/28 | 分类号： | B22F10/28;B23K15/00;B23K26/04;G05B19/4099;B33Y10/00;B33Y50/02;B29C64/277;B29C64/268;H01J37/317;G05B19/401 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 张辛睿;李雪 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
一种用于使多束照射系统(20)对准的方法，该多束照射系统被用在用于通过以电磁或粒子辐射照射原料粉末层来生产三维工件的设备(10)中，该方法包括以下步骤：i)将第一原料粉末层施加到载架(16)上，以限定出要被由照射系统(20)发射的辐射束(24a，24b)照射的照射平面(S)；ii)使用由照射系统(20)的经校准的第一照射单元(22a)发射的第一辐射束(24a)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第一测试结构(34)；iii)使用由照射系统(20)的经校准的第二照射单元(22b)发射的第二辐射束(24b)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第二测试结构(36)；iv)确定第一测试结构和第二测试结构(34，36)之间在照射平面(S)中的偏移(dx |
||
| 搜索关键词： | 用于 使多束 照射 系统 对准 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SLM方案集团股份公司，未经SLM方案集团股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880091414.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
