[发明专利]纳米制作中的占空比、深度和表面能控制有效
| 申请号： | 201880094597.7 | 申请日： | 2018-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN112334290B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | N·R·莫汗蒂;M·C·R·莱博维西 | 申请（专利权）人： | 元平台技术有限公司 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;B29C33/42;B29C33/56 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李春辉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于制作倾斜表面浮雕结构的技术。在一些实施例中，一种用于制作诸如纳米压印光刻术(NIL)模具或倾斜表面浮雕光栅之类的目标倾斜表面浮雕结构的方法包括：制造包括多个脊部的初步表面浮雕结构，以及修改初步表面浮雕结构的参数，以制成目标倾斜表面浮雕结构。该参数包括多个脊部中的每个脊部的宽度、多个脊部中的每个脊部的高度、初步表面浮雕结构的表面能、或多个脊部的边缘的倾斜角。修改参数包括：在初步表面浮雕结构上沉积材料层，以及对材料层进行蚀刻或表面处理。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 制作 中的 深度 表面 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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