[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及有机半导体元件的制造方法在审
| 申请号： | 201880096413.0 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN112543817A | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 崎尾进;岸本克彦 | 申请（专利权）人： | 堺显示器制品株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H05B33/10;H05B33/14 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 叶乙梅 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 蒸镀掩膜(100)包括：磁性金属体(20),其含有至少一个第一开口部(25)；层叠体(30),在磁性金属体(20)上覆盖至少一个第一开口部(25)配置,并具有位于至少一个第一开口部(25)内的多个第二开口部(13)；层叠体(30)包括第一层(m1)以及配置于第一层(m1)与磁性金属体(20)之间的第二层(m2),在至少一个第一开口部(25)内,室温以上的第一温度下的第一层的弹性模量E1、第一层的厚度a1、第一层所具有的内部应力σ1、第二层的弹性模量E2、第二层的厚度a2、第二层所具有的内部应力σ2满足下述式(1)、(2)：σ1/E1‑σ2/E2＜0···(1)0＜a1×σ1+a2×σ2···(2)其中，σ1、σ2为拉伸应力时为正。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 制造 方法 以及 有机半导体 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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