[发明专利]具有三齿螯合吸附位点铅印迹硅材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201910001565.4 | 申请日: | 2019-01-02 |
公开(公告)号: | CN109692666B | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 侯秀峰;詹兵;仪莹 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | B01J20/22 | 分类号: | B01J20/22;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;陆尤 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属于重金属离子吸附技术领域,具体为具有三齿螯合吸附位点铅印迹硅材料及其制备方法和应用。本发明制备方法包括:在甲醇和/或乙醇中,分别将BPMA、DIPA与铅化合物混合反应,得到BPMA和DIPA铅配合物;在重蒸甲苯中,加入活化后的介孔硅材料与CPTES,加热反应,并将处理后的产物、BPMA或DIPA铅配合物、碱在甲苯中加热回流,然后用酸洗涤去除铅,即得两种新型具有三齿螯合位点铅离子印迹材料。本发明的三齿功能化铅印迹MCM‑41材料对铅离子具有吸附量大、吸附速度快、良好的选择性、较强的抗干扰能力和循环使用能力,可用于吸附和/或检测铅离子。 | ||
搜索关键词: | 具有 三齿螯合 吸附 铅印 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种具有三齿螯合吸附位点铅印迹硅材料的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:(1)在甲醇和/或乙醇中,分别将BPMA、DIPA与铅化合物混合,反应得到BPMA和DIPA铅配合物;(2)然后,在重蒸甲苯中,加入活化后的MCM‑41与CPTES,加热回流,并将处理后的产物,以及BPMA或DIPA铅配合物、碱,在甲苯中加热回流,然后用酸洗涤去除铅,即得两种新型具有三齿螯合位点铅离子印迹材料;其中,所述BPMA是双(吡啶‑2‑基甲基)胺,所述DIPA是二(吡啶‑2‑基)甲胺,所述CPTES是3‑氯丙基三乙氧基硅烷,所述MCM‑41是一种介孔材料。
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