[发明专利]一种基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管及测量装置有效

专利信息
申请号: 201910003119.7 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN109755307B 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 缪峰;王肖沐;高安远 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L29/772 分类号: H01L29/772;H01L29/06;G01R31/26
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210008 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管及测量装置,晶体管包括绝缘层、金属电极层、二维材料薄膜层、二维材料薄膜层和二维材料薄膜层;金属电极层包括漏电极层,源电极层和栅电极层;二维材料薄膜层和二维材料薄膜层铺设在绝缘层上,二维材料薄膜层位于两者堆叠部位之间,源电极层覆盖在二维材料薄膜层的非堆叠部位,漏电极层覆盖在堆叠部位上方或者二维材料薄膜层的非堆叠部位,栅电极层与绝缘层连接。本发明测量装置,包括前述基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管、电压源及电流表。本发明的晶体管降低了场效应晶体管的亚阈值摆幅<1mV/dec,实现低功耗,此外,减小器件尺寸,提高器件稳定性。
搜索关键词: 一种 基于 二维 层状 材料 雪崩 场效应 晶体管 测量 装置
【主权项】:
1.一种基于二维层状材料的雪崩场效应晶体管,其特征在于:包括绝缘层(2)、金属电极层、第一二维材料薄膜层(4)、第二二维材料薄膜层(5)和第三二维材料薄膜层(6);金属电极层包括漏电极层(31)、源电极层(32)和栅电极层(33);第一二维材料薄膜层(4)和第三二维材料薄膜层(6)铺设在绝缘层(2)上,第二二维材料薄膜层(5)位于两者堆叠部位之间,源电极层(32)覆盖在第一二维材料薄膜层(4)的非堆叠部位,漏电极层(31)覆盖在堆叠部位上方或者第三二维材料薄膜层(6)的非堆叠部位,栅电极层(33)与绝缘层(2)连接。
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