[发明专利]薄膜晶体管、传感器、检测方法、检测装置及检测系统有效

专利信息
申请号: 201910005159.5 申请日: 2019-01-03
公开(公告)号: CN109728098B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 李广耀;汪军;王庆贺;王海涛;宋威;张扬;王东方;闫梁臣 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/41
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 崔家源;夏东栋
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开提供了一种薄膜晶体管、传感器、检测方法、检测装置及检测系统,其中,该薄膜晶体管包括:第一绝缘层、栅极、有源层、源极组件和漏极组件,第一绝缘层包括相对设置的第一面和第二面;栅极设置在第一绝缘层的第一面上;有源层设置在第一绝缘层的第二面上,有源层用于与待检测体内的铜离子反应;源极组件和漏极组件均设置在第一绝缘层的第二面上且分别位于有源层相对的两侧;该传感器包括电源、信号生成模块及如上的薄膜晶体管,电源分别与信号生成模块和薄膜晶体管连接;薄膜晶体管,用于与待检测体内的铜离子反应并生成检测信号;信号生成模块,用于基于检测信号生成体外可识别的通讯消息。本发明实施例能够检测待检测体内的铜离子浓度。
搜索关键词: 薄膜晶体管 传感器 检测 方法 装置 系统
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:第一绝缘层,所述第一绝缘层包括相对设置的第一面和第二面;栅极,所述栅极设置在所述第一绝缘层的第一面上;有源层,所述有源层设置在所述第一绝缘层的第二面上,所述有源层用于与待检测体内的铜离子反应;源极组件和漏极组件,所述源极组件和所述漏极组件均设置在所述第一绝缘层的第二面上且分别位于所述有源层相对的两侧。
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