[发明专利]对比度单发测量装置

摘要

一种对比度单发测量装置，包括楔形分束片、高对比度取样光产生结构、第一反射镜、第一扩束器、第一柱面聚焦元件、二阶非线性晶体、第二反射镜、置于平移台上的第三反射镜和第四反射镜、第五反射镜、第二扩束器、第二柱面聚焦元件、条形衰减片、成像透镜、光谱滤波片和sCMOS相机。本发明具有结构紧凑且经济实用，取样光是基于三阶非线性过程获得，对比度高更高，因而测量结果更准确；同时因为采用sCMOS作为互相关信号光的采集装置，测量的时间分辨率更高。

主权项

1.一种对比度单发测量装置，特征在于其构成包括：楔形分束片(1)、高对比度取样光产生结构(2)、第一反射镜(3)、第一扩束器(4)、第一柱面聚焦元件(5)、二阶非线性晶体(6)、第二反射镜(7)、置于平移台(10)上的第三反射镜(8)和第四反射镜(9)、第五反射镜(11)、第二扩束器(12)、第二柱面聚焦元件(13)、条形衰减片(14)、成像透镜(15)、光谱滤波片(16)和sCMOS相机(17)入射光经过楔形分束片(1)之后，入射光被分成反射光和透射光，在所述透射光的光路上依次设置高对比度取样光产生结构(2)，第一反射镜(3)，第一扩束器(4)，第一柱面聚焦元件(5)，所述透射光最终经所述第一柱面聚焦元件(5)聚焦入射到一枚二阶非线性晶体(6)中；所述的高对比度取样光产生结构可以基于自衍射效应、交叉偏振波产生和级联四波混频等三阶非线性过程产生高能量高对比度的取样光；在所述反射光的光路上依次设置第二反射镜(7)、置于平移台(10)上的第三反射镜(8)和第四反射镜(9)、第五反射镜(11)，第二扩束器(12)，第二柱面聚焦元件(13)，然后也入射到所述二阶非线性晶体(6)中并与所述反射光重合，所述第三反射镜(8)和第四反射镜(9)位于所述平移台(10)上构成时间延迟线；当所述入射光和所述透射光在时间空间上重合的时候，基于二阶和频效应会在所述二阶非线性晶体(6)产生互相关信号光；所述的互相关信号光依次通过条形衰减片(14)、成像透镜(15)和光谱滤波片(16)，最终入射到一台sCMOS相机(17)。