[发明专利]背光结构及其制备方法在审
申请号: | 201910015041.0 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN109459884A | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 宋连燕;丘永元 | 申请(专利权)人: | 惠州市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 516006 广东省惠州市仲恺高新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种背光结构及其制备方法,所述背光结构包括:基板和光源膜片,所述光源膜片包括:光源层、量子点层及棱镜膜片。所述背光结构的制备方法包括:基板设置步骤和光源膜片制备步骤,所述光源膜片制备步骤包括:光源层制备步骤,棱镜膜片制备步骤和量子点层制备步骤。本发明的技术效果在于,实现背光薄型化、背光一体化,便于自动组装,提高背光亮度,节约成本。 | ||
搜索关键词: | 制备 背光结构 膜片 光源 背光 棱镜膜片 量子点层 光源层 基板设置 技术效果 自动组装 薄型化 基板 一体化 节约 | ||
【主权项】:
1.一种背光结构,其特征在于,包括:一基板;以及一光源膜片,贴附于所述基板的一侧表面;所述光源膜片包括:一光源层,贴附于所述基板的一侧表面;一量子点层,贴附于所述光源层远离所述基板的一侧表面;以及一棱镜膜片,贴附于所述量子点层远离所述光源层的一侧表面。
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