[发明专利]一种Micro LED及其阵列基板、检测设备和检测方法有效
申请号: | 201910015236.5 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN109686828B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 赵承潭 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;G01M11/00;G01R31/26 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种Micro LED及其阵列基板、检测设备和检测方法,其中Micro LED位于衬底基板上,包括:N型半导体层;P型半导体层;位于N型半导体层和P型半导体层之间的发光层;与所述N型半导体层接触的N型电极;与所述P型半导体层接触的P型电极;所述P型电极和所述N型电极在所述衬底基板上的正投影不重合,且所述P型电极和所述N型电极的高度差大于或者等于3微米。由于P型电极与N型电极之间的高度差较大,因此可以在不封装的情况下,直接利用检测设备对Micro LED的两个电极加电后进行亮度检测时。若检测出来某些Micro LED的亮度不满足要求,即可进行更换掉,将符合要求的Micro LED进行封装使用,检测和更换Micro LED的操作简单,成本较低。 | ||
搜索关键词: | 一种 micro led 及其 阵列 检测 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Micro LED,位于衬底基板上,其特征在于,所述Micro LED包括:N型半导体层;P型半导体层;位于N型半导体层和P型半导体层之间的发光层;与所述N型半导体层接触的N型电极;与所述P型半导体层接触的P型电极;所述P型电极和所述N型电极在所述衬底基板上的正投影不重合,且所述P型电极和所述N型电极的高度差大于或者等于3微米。
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