[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201910017949.5 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110021515A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 赵秀范;柳海永;李珠熙;张容文;许明洙 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 张晓;张逍遥 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种等离子体处理装置。所述等离子体处理装置包括：腔室；多个介电窗，覆盖腔室的顶部；盖框架，在同一平面上支撑所述多个介电窗；多个支撑杆，支撑盖框架的顶部；以及多个天线，位于所述多个介电窗上方，其中，所述多个天线包括位于由所述多个支撑杆限定的区域内部并具有环形形式的第一天线以及位于由所述多个支撑杆限定的区域外部并具有环形形式的第二天线，并且第一天线中的第一电流方向与第二天线中的第二电流方向彼此相同。 | ||
| 搜索关键词： | 天线 等离子体处理装置 介电窗 支撑杆 电流方向 环形形式 腔室 区域内部 区域外部 盖框架 上支撑 支撑盖 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包括：腔室；多个介电窗，覆盖所述腔室的顶部；盖框架，在同一平面上支撑所述多个介电窗；多个支撑杆，支撑所述盖框架的顶部；以及多个天线，位于所述多个介电窗上方，其中，所述多个天线包括：第一天线，位于由所述多个支撑杆限定的区域内部，并具有环形形式；以及第二天线，位于由所述多个支撑杆限定的所述区域外部，并具有环形形式，并且其中，所述第一天线中的第一电流方向与所述第二天线中的第二电流方向彼此相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910017949.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
