[发明专利]电化学装置及其形成方法在审
| 申请号： | 201910018638.0 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110034335A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 任成镇;郑熙树;金敬焕;朴辉烈;孙精国;梁祐荣;李在洺;李俊亨;许晋硕 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01M10/058 | 分类号： | H01M10/058;H01M10/052;H01M10/0562;H01M4/131;H01M4/134;H01M4/136 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 翟然 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种电化学装置包括正电极集流体、设置在正电极集流体上的多个正电极、设置在所述多个正电极上的电解质层、设置在电解质层上的负电极以及设置在负电极上的负电极集流体，其中电解质层包括第一电解质层和第二电解质层，以及其中第二电解质层在第一电解质层与负电极之间。 | ||
| 搜索关键词： | 电解质层 负电极 正电极集流体 电化学装置 正电极 负电极集流体 | ||
【主权项】：
1.一种电化学装置，包括：正电极集流体；多个正电极，设置在所述正电极集流体上；电解质层，设置在所述多个正电极上；负电极，设置在所述电解质层上；以及负电极集流体，设置在所述负电极上，其中所述电解质层包括第一电解质层和第二电解质层，以及其中所述第二电解质层在所述第一电解质层与所述负电极之间。
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