[发明专利]具有反应相涂层的带槽的陶瓷涂层及形成其的方法在审
| 申请号： | 201910020037.3 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN110016666A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | H.克沙文;B.A.普里查德;C.A.赫尔;A.J.库尔卡尼;M.S.伊德尔基克;B.P.布莱 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡宗鑫;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种涂覆的构件连同其形成的方法，该涂覆的构件包括带槽的陶瓷涂层，该陶瓷涂层具有设置在其上的反应相涂层，用于改进对环境污染物组合物的抵抗性。涂覆的构件可包括限定表面的基底、设置在基底的表面上的陶瓷涂层以及设置在环境污染物组合物层上的反应相涂层。陶瓷涂层包括设置在陶瓷涂层中的多个槽，其形成陶瓷涂层材料的节段。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷涂层 反应相 涂覆 环境污染物 带槽的 基底 陶瓷涂层材料 限定表面 组合物层 抵抗性 节段 改进 | ||
【主权项】：
1.一种涂覆的构件，包括：限定表面的基底；设置在所述基底的所述表面上的陶瓷涂层；以及沿着所述陶瓷涂层设置的反应相涂层，其中所述陶瓷涂层包括设置在所述陶瓷涂层中的多个槽，所述多个槽形成陶瓷涂层材料的多个节段。
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