[发明专利]用于均匀等离子体处理的喷嘴在审
| 申请号： | 201910020043.9 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN109637922A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | R·米什拉;S·S·C·R·巴海瑟帝;E·S·白;S·斯如纳乌卡拉苏;S·瓦亚布朗;C·孙 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于均匀等离子体处理的喷嘴包括入口部及出口部。该入口部具有基本上平行于垂直轴的侧表面。该入口部包括多个气体通道。该出口部被耦接到该入口部。该出口部包括多个出口。所述出口中的至少一个相对于该垂直轴成非直角的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 入口部 出口部 均匀等离子体 喷嘴 垂直轴 气体通道 侧表面 非直角 平行 出口 | ||
【主权项】：
1.一种用于均匀等离子体处理的装置，包括：喷嘴，所述喷嘴包括：入口部，所述入口部包括多个气体通道，所述入口部具有基本上平行于垂直轴的侧表面；以及空腔，所述空腔在所述多个气体通道下方；以及出口部，所述出口部在所述空腔下方，其中所述出口部包括多个出口，其中所述出口中的至少一个相对于所述垂直轴成非直角的角度；以及支撑特征，所述支撑特征在所述入口部和所述出口部之间的所述空腔中，其中所述支撑特征在所述出口部的所述多个出口内被居中地定位。
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