[发明专利]一种低维有机纳米材料的聚集结构的制备方法在审
| 申请号： | 201910020111.1 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109851555A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 谷建民;张自明;李四横;尹百鹏;钟金玲 | 申请（专利权）人： | 燕山大学 |
| 主分类号： | C07D215/30 | 分类号： | C07D215/30;C07C15/38;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 066000 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米材料技术领域，提供了一种低维有机纳米材料的聚集结构的制备方法:(1)构建挥发装置；(2)将化合物溶液添加到基底上，将反溶剂添加到挥发容器底部，且反溶剂的添加量不超过支撑部件的高度；所述反溶剂的表面张力小于化合物溶液中所使用溶剂的表面张力；(3)所述化合物溶液和反溶剂添加完毕之后立即封闭所述挥发容器，静置，待化合物溶液中的溶剂和反溶剂挥发完全之后得到低维有机纳米材料的聚集结构。本发明通过调节合成体系的界面张力使得低维有机纳米材料聚集成复杂结构，能够成功制备得到低维有机纳米材料的聚集结构。 | ||
| 搜索关键词： | 有机纳米材料 反溶剂 低维 化合物溶液 制备 挥发容器 溶剂 纳米材料技术 复杂结构 合成体系 挥发装置 支撑部件 添加量 构建 挥发 基底 封闭 成功 | ||
【主权项】：
1.一种低维有机纳米材料的聚集结构的制备方法，包含如下步骤：(1)构建挥发装置：所述挥发装置包含挥发容器，所述挥发容器底部放置支撑部件，支撑部件之上放置基底；(2)将化合物溶液添加到基底上，将反溶剂添加到挥发容器底部，且反溶剂的添加量不超过支撑部件的高度；所述反溶剂的表面张力小于化合物溶液中所使用溶剂的表面张力；(3)所述化合物溶液和反溶剂添加完毕之后立即封闭所述挥发容器，静置，待化合物溶液中的溶剂和反溶剂挥发完全之后得到低维有机纳米材料的聚集结构。
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