[发明专利]一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版有效
| 申请号： | 201910020178.5 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109504938B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 康梦华 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 张海英 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版。其中，掩膜单元的制作方法包括：获取张网拉伸模拟位移数据；根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。本发明提供了一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版，以解决掩膜单元上子像素位置开口的位置在张网过程中会发生偏移的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单元 及其 制作方法 掩膜版 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜单元的制作方法，其特征在于，包括：获取张网拉伸模拟位移数据；根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。
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