[发明专利]研磨头扫描方法及装置有效
| 申请号： | 201910025095.5 | 申请日： | 2019-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN109648461B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 李嘉浪;周庆亚;李久芳;孟晓云;孔宪越 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 肖丽 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨头扫描方法及装置，涉及化学机械研磨的技术领域，包括：获取目标研磨头的运行参数；运行参数包括：频率、分区数量、位移最小值、位移最大值、时间间隔和平滑度；根据运行参数确定目标研磨头在每个分区的时间位移坐标；根据时间位移坐标拟合目标研磨头在每个分区内的运行轨迹；获取目标研磨头的位移坐标，并根据位移坐标确定目标研磨头处于的分区；控制目标研磨头以位移坐标为起点，按照目标研磨头所处分区对应的运行轨迹进行扫描。在设定目标研磨头的运行参数后，确定目标研磨头在每个分区的时间位移坐标并拟合运行轨迹，按照目标研磨头所处分区对应的运行轨迹进行扫描。可以增加研磨头扫描效率，降低研磨头扫描成本。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 扫描 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种研磨头扫描方法，其特征在于，应用于研磨头电机的控制器，包括：获取目标研磨头的运行参数；所述运行参数包括：频率、分区数量、位移最小值、位移最大值、时间间隔和平滑度；根据所述运行参数确定所述目标研磨头在每个分区的时间位移坐标；根据所述时间位移坐标拟合所述目标研磨头在所述每个分区内的运行轨迹；获取所述目标研磨头的位移坐标，并根据所述位移坐标确定所述目标研磨头处于的分区；控制所述目标研磨头以所述位移坐标为起点，按照所述目标研磨头所处分区对应的所述运行轨迹进行扫描。
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