[发明专利]抛光层、抛光垫及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910035242.7 申请日: 2019-01-15
公开(公告)号: CN109693176B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 李翔;刘敏;童已仁;吴晓茜;朱顺全 申请(专利权)人: 湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
主分类号: B24B37/20 分类号: B24B37/20;B24B37/22;B24B37/24;B24D18/00;C08G18/66;C08G18/48;C08G18/32;C08G18/10;C08J9/32;C08L75/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430057 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 抛光层以及具有该抛光层的抛光垫、抛光层的制备方法,涉及化学机械平面化处理的抛光技术领域,包括以下步骤:制备A组分的双官能或多官能异氰酸酯的预聚体、B组分的中空微球体与C组分固化剂的多元混合物;浇注成型,将上述多元混合物浇注至模腔并流平凝胶化;加热固化,将承装有凝胶化的三元混合物的模具进行加热固化得到浇注体;降温至预定温度T时进行保温切片,切片时刀具相对于浇注体的水平切割速率V应满足:8cm/s≤V≤20cm/s。
搜索关键词: 抛光 制备 方法
【主权项】:
1.一种抛光层,其作为抛光垫的抛光接触层,其特征在于,其为聚氨酯发泡体的切割片,所述切割片在室温条件下的邵氏硬度为50D‑80D,密度为0.6~1.15g/cm3,厚度为0.7‑2.5mm,所述切割片的翘曲程度为0cm‑1.5cm。
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