[发明专利]校准准直器的方法及执行该方法的用于X射线分析的装置有效
| 申请号： | 201910036174.6 | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN110037717B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | S·维奇奥;P·维格诺里;V·萨洛莫尼 | 申请（专利权）人： | IMS吉奥托股份公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈斌;亓云 |
| 地址： | 意大利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于校准X射线的准直器(112)的方法以及一种用于X射线分析的包括该准直器(112)并且可自动地执行该方法的装置(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 准直器 方法 执行 用于 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于X射线分析的装置(1)，包括：‑用于生成X射线的场(C)的设备(11)，所述设备(11)包括源(111)和准直器(112)，并且被配置成使得所述准直器(112)以限定所述场(C)的方式准直所述源(111)的射线；‑检测器(12)，所述检测器(12)包括检测表面(121)并且被配置成揭示所述检测表面(121)的至少一个图像，所述至少一个图像代表入射到所述检测表面(121)上的所述X射线；其中：‑所述装置(1)被配置成使得所述设备(11)能够采用至少第一位置，所述第一位置与所述设备(11)的用于所述准直器(112)的校准的校准位置(P1)相符；‑所述准直器(112)能够采用与由所述源(111)生成的所述X射线的多个相应的准直模式相对应的多个操作配置；‑所述装置(1)被配置成使得当所述准直器(112)采用这些操作配置中的任何一个并且所述设备(11)采用所述校准位置(P1)时，所述场(C)以限定由所述场(C)和所述检测表面(121)之间的交叉造成的交叉部分(S)的方式来撞击所述检测表面(121)；‑所述装置被配置成使得当所述设备(11)采用所述校准位置(P1)时，所述准直器(112)的所述操作配置的变化对应于所述交叉部分(S)相对于所述检测表面(121)的几何配置的变化，以此方式使得所述准直器的每个操作配置对应于所述交叉部分的相应几何配置；‑所述装置被配置成采集由所述检测器揭示的所述至少一个图像以及检测所述交叉部分(S)的几何配置；其特征在于，所述装置(1)被配置成基于所述交叉部分(S)的至少两个检测到的不同几何配置来计算对应于所述校准位置(P1)的局部数学关系、对应于所述校准位置的所述局部数学关系针对所述设备(11)的所述校准位置(P1)使得所述准直器(112)的所述操作配置的变化和所述交叉部分(S)的所述几何配置的变化在数学上彼此相关。
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