[发明专利]一种阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制造方法，包括像素区和端子区；像素区包括栅极、像素电极、栅极保护层、栅极绝缘层、半导体层、源极和漏极、第一绝缘层、第二绝缘层和公共电极；栅极绝缘层上具有第一栅极绝缘层孔，漏极通过第一栅极绝缘层孔与像素电极导通；端子区包括栅极、栅极保护层、栅极绝缘层、金属接触层、第一绝缘层、第二绝缘层、和公共电极。本发明通过在栅极上形成栅极保护层，可以保护栅极不被腐蚀和氧化；通过设计像素电极上方无第二绝缘层，可以提高像素区光的透过率；通过控制干刻时间可控制第一绝缘层和栅极绝缘层的厚度，进而控制公共电极与像素电极之间的距离；将阵列基板的制造减少至6道光罩，节约成本。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，阵列基板包括位于中间的像素区和位于边缘的端子区，其特征在于：包括如下步骤：S1：采用第一金属分别在玻璃基板的像素区和端子区上形成栅极；S2：形成覆盖栅极的栅极保护层；同时在像素区栅极外侧形成像素电极；栅极保护层与像素电极材料相同，均为透明导电材料；S3：形成覆盖栅极保护层和像素电极的栅极绝缘层，在栅极绝缘层上方形成半导体层。