[发明专利]一种曝光系统及光刻机有效
| 申请号： | 201910045459.6 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111443575B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 湛宾洲;王彩红 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种曝光系统及光刻机，曝光系统包括：沿光轴依次排列的光源、耦合镜组、匀光组件、中继镜组和投影物镜；所述曝光系统还包括能量传感器和至少一个能量探测器，所述能量传感器位于所述投影物镜的像面上；所述匀光组件包括第一匀光单元和第二匀光单元，所述第一匀光单元位于所述耦合镜组与所述第二匀光单元之间，所述第一匀光单元与所述第二匀光单元沿光轴方向上存在空隙；所述能量探测器位于所述匀光组件一侧且朝向所述空隙处，所述能量探测器用于接收从所述空隙出射的光线，并对所述能量传感器进行标定。本发明实施例提供一种曝光系统及光刻机，以实现提高能量探测器的线性度，以及提高曝光剂量的控制精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 系统 光刻 | ||
【主权项】：
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