[发明专利]一种红外滤光片及其制备方法在审
| 申请号： | 201910048918.6 | 申请日： | 2019-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN109581563A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 邓杨;李春辉;刘浩哲;刘生利;谢启浩 | 申请（专利权）人： | 营口艾德玛科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人： | 李世端 |
| 地址： | 115000 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种红外滤光片及其制备方法，红外滤光片包括红外基底，在红外基底的至少一个表面上设置有镀膜层，镀膜层包括依次交替叠加的锗层和类金刚石膜层，其中，镀膜层与红外基底接触的为锗层，镀膜层的最外层为类金刚石膜层。制作红外滤光片的方法，包括以下步骤：步骤一：基片清洗；步骤二：进行锗层和类金刚石膜层的交替沉积。本发明采用新型材料类金刚石膜DLC直接和高折锗材料进行红外增透减反膜设计和镀膜加工，减少了传统膜层层数和厚度，同时通过两种材料的交替镀膜，以及应力的抵消设计，解决了DLC与基底附着力差的问题，也解决了红外窗口不耐摩擦、刮伤，不耐酸碱等亟待解决的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 红外滤光片 镀膜层 类金刚石膜层 锗层 基底 制备 基底附着力 类金刚石膜 镀膜加工 红外窗口 基底接触 基片清洗 交替沉积 交替叠加 交替镀膜 新型材料 耐酸碱 锗材料 最外层 刮伤 增透 抵消 摩擦 制作 | ||
【主权项】：
1.一种红外滤光片，其特征在于，包括红外基底，在红外基底的至少一个表面上设置有镀膜层，所述镀膜层包括依次交替叠加的锗层和类金刚石膜层，其中，所述镀膜层与所述红外基底接触的为锗层，所述镀膜层的最外层为类金刚石膜层。
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