[发明专利]真空蒸镀装置和真空蒸镀方法在审

专利信息
申请号: 201910055300.2 申请日: 2019-01-21
公开(公告)号: CN109609912A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 李文星;李俊峰;甘帅燕;范波涛;彭兆基 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 张海英
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明实施例公开了一种真空蒸镀装置和真空蒸镀方法,该真空蒸镀装置包括:用于吸附金属掩模板的磁板,磁板包括中心磁板单元和位于中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元,其中,中心磁板单元和周边磁板单元相对于金属掩模板分别独立地可移动设置。本发明的技术方案利用分别独立地可移动设置的中心磁板单元和周边磁板单元先后吸附金属掩模板,可保证金属掩模板的平整性,从而有利于提高蒸镀良率。
搜索关键词: 磁板 金属掩模板 真空蒸镀装置 可移动设置 真空蒸镀 吸附 平整性 良率 外周 蒸镀 保证
【主权项】:
1.一种真空蒸镀装置,与金属掩模板配合使用,其特征在于,所述真空蒸镀装置包括:用于吸附所述金属掩模板的磁板,所述磁板包括中心磁板单元和位于所述中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元,其中,所述中心磁板单元和所述周边磁板单元相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置。
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