[发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910056321.6 申请日: 2019-01-22
公开(公告)号: CN109817642B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 陈黎暄 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法,通过利用图案化的黑色聚酰亚胺层作为可见光的吸收层且图案化的黑色聚酰亚胺层和图案化的绝缘层构成可见光的高反射介质层以避免可见光照射至有源层,图案化的黑色聚酰亚胺层和图案化的绝缘层作为非导电层不会与薄膜晶体管阵列基板中的导电层形成寄生电容。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括如下步骤:提供一基板;于所述基板上形成依次层叠的图案化的绝缘层和图案化的黑色聚酰亚胺层,所述图案化的绝缘层对可见光的折射率大于所述基板和所述图案化的黑色聚酰亚胺层对可见光的折射率;于所述图案化的黑色聚酰亚胺层上方形成有源层;于所述有源层上方形成导电层。
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