[发明专利]电子束出射窗口部件、电子束产生装置及电子束产生系统在审
| 申请号： | 201910058026.4 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN109755086A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 朱晓东;朱波龙;杨宽;马尧;刘万东 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | H01J33/04 | 分类号： | H01J33/04;H01J33/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电子束出射窗口部件、电子束产生装置及电子束产生系统，电子束出射窗口部件包括：支撑片，所述支撑片形成有一出射开口；以及，位于所述支撑片一侧表面、且覆盖所述出射开口的非金属薄膜，其中，所述非金属薄膜为单个薄膜层或多个薄膜层的叠加层，且所述薄膜层为金刚石薄膜层、掺硼的金刚石薄膜层、石墨烯薄膜层或氮化硼薄膜层。由上述内容可知，在工作过程中电子束通过出射开口、并经过非金属薄膜后传输至工作环境中，其中，通过将非金属薄膜设置为电子束出射的窗口薄膜，进而减少了电子束在窗口薄膜上能量的沉积，改善了窗口薄膜发生形变甚至断裂的问题，保证电子束产生装置及系统的工作稳定性高。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 非金属薄膜 出射 电子束产生装置 出射窗口 窗口薄膜 支撑片 电子束产生系统 金刚石薄膜层 开口 薄膜层 石墨烯薄膜层 氮化硼薄膜 工作稳定性 单个薄膜 叠加层 断裂的 形变 掺硼 沉积 传输 覆盖 保证 | ||
【主权项】：
1.一种电子束出射窗口部件，应用于电子束产生装置，其特征在于，包括：支撑片，所述支撑片形成有一出射开口；以及，位于所述支撑片一侧表面、且覆盖所述出射开口的非金属薄膜，其中，所述非金属薄膜为单个薄膜层或多个薄膜层的叠加层，且所述薄膜层为金刚石薄膜层、掺硼的金刚石薄膜层、石墨烯薄膜层或氮化硼薄膜层。
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