[发明专利]新建地下室与既有地铁站的短地下通道结构及其施工方法在审
申请号: | 201910058091.7 | 申请日: | 2019-01-22 |
公开(公告)号: | CN109518722A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 王长录;王剑非;李振雄;许艳苗;何毅;吴勇;彭云;姚继红;李文艳;沈雁波;刘轩;周麟;王晓燕;雷春燕;桂跃 | 申请(专利权)人: | 云南省建设投资控股集团有限公司;云南建投第三建设有限公司 |
主分类号: | E02D29/045 | 分类号: | E02D29/045 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650501 云南省昆明市经开区*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供一种新建地下室与既有地铁站连接的短地下通道结构,该结构包括若干水平梁和两个圈梁,水平梁沿地下通道开挖方向延伸并均匀分布于开挖断面的上侧和左右两侧,圈梁分别位于水平梁两端的断面上。本发明进一步提供一种新建地下室与既有地铁站短地下通道结构的施工方法。本发明解决了新建地下室与既有地铁站的连接问题,施工方法属于暗挖法,避免明挖施工可能带来的交通堵塞、土方量巨大和噪音大等系列问题,为工程施工提供更有保障的工作面,有效增强隧道的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 地下通道 地铁站 地下室 水平梁 施工 圈梁 开挖 方向延伸 工程施工 交通堵塞 左右两侧 暗挖法 土方量 噪音 隧道 | ||
【主权项】:
1.一种新建地下室与既有地铁站的短地下通道结构,其特征在于,该结构包括若干水平梁和两个圈梁,所述水平梁沿地下通道开挖方向延伸并均匀分布于开挖断面的上侧和左右两侧,所述圈梁分别位于水平梁两端的断面上。
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