[发明专利]染料结构在审
| 申请号： | 201910060013.0 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN109782535A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 查宝 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于彩膜光刻胶的染料结构，包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。本发明可以改善染料的热稳定性并可以经紫外光照射之后不会因染料的裂解而破坏染料的结构，进而避免影响色度。 | ||
| 搜索关键词： | 染料 保护层 染料结构 芯核 紫外光吸收剂 耐热高分子 紫外光照射 热稳定性 聚合物 光刻胶 包覆 彩膜 裂解 色度 散布 | ||
【主权项】：
1.一种用于彩膜光刻胶的染料结构，其特征在于：所述染料结构包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。
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