[发明专利]光电探测器结构在审

专利信息
申请号: 201910061254.7 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN110391303A 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 赵根煐;池晧哲 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/105
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘美华;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种光电探测器结构,所述光电探测器结构包括:基底,包括半导体膜;光吸收层,位于基底上,所述光吸收层与半导体膜接触并且包括锗(Ge);第一涂层,位于基底上,所述第一涂层包围光吸收层的侧表面的至少一部分;以及光波导,位于第一涂层上,所述光波导与光吸收层接触并且包括氮化硅(SiN),其中,光波导的下表面比光吸收层的下表面高。
搜索关键词: 光吸收层 光电探测器结构 光波导 基底 半导体膜 下表面 侧表面 氮化硅 包围
【主权项】:
1.一种光电探测器结构,所述光电探测器结构包括:基底,包括半导体膜;光吸收层,位于基底上,所述光吸收层与半导体膜接触并且包括锗;第一涂层,位于基底上,所述第一涂层包围光吸收层的侧表面的至少一部分;以及光波导,位于第一涂层上,所述光波导与光吸收层接触并且包括氮化硅,其中,光波导的下表面比光吸收层的下表面高。
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