[发明专利]发光装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201910062008.3 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN110112123A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 郑景太;陈效义;任益华;胡玮珊;蓝培轩 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L25/075 | 分类号： | H01L25/075;H01L33/00;H01L33/48;H01L33/50;H01L33/54;H01L33/58;H01L33/62 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种发光装置及其制造方法，该发光装置包括第一发光元件、第二发光元件、反射围栏及显色层。第一发光元件发出一波峰不大于500nm的第一光线。第二发光元件发出一波峰不大于500nm的第二光线。反射围栏位于第一发光元件与第二发光元件之间，并环绕第一发光元件与第二发光元件。显色层包括第一区域及第二区域。第一区域覆盖第一发光元件并允许第一光线直接通过，且第二区域覆盖第二发光元件并将第二光线转换成一波峰大于500nm的第三光线。 | ||
| 搜索关键词： | 发光元件 发光装置 波峰 第二区域 第一区域 显色层 反射 围栏 光线转换 覆盖 制造 环绕 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，其特征在于，包括：第一发光元件，用以发出一波峰不大于500纳米(nm)的第一光线；第二发光元件，用以发出一波峰不大于500nm的第二光线；反射围栏，位于该第一发光元件与该第二发光元件之间，并环绕该第一发光元件与该第二发光元件；以及显色层，包括第一区域及第二区域；其中，该第一区域覆盖该第一发光元件，并允许该第一光线直接通过，且该第二区域覆盖该第二发光元件，并将该第二光线转换成一波峰大于500nm的第三光线。
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