[发明专利]控制等离子体处理装置的方法和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201910073186.6 | 申请日： | 2019-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN110085502B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 辻本宏;户花敏胜 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的技术问题为提供一种能够调节等离子体的状态的方法。解决方案为：在一实施方式的方法中，在腔室的内部空间中生成气体的等离子体。在等离子体的生成期间，增加由直流电源施加到电极的负极性的直流电压的绝对值。电极构成腔室的一部分或者设置于内部空间中。在负极性的直流电压的绝对值的增加期间确定第一电压值。第一电压值是在负极性的直流电压的绝对值的增加期间电流开始流过电极的该时刻该电极中的电压值。在等离子体的生成期间，将由直流电源施加到电极的直流电压的电压值设定为具有第一电压值与指定值之和的值的第二电压值。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种控制等离子体处理装置的方法，其能够控制将直流电压施加到等离子体处理装置的电极，该方法的特征在于，包括：在腔室的内部空间中生成气体的等离子体的步骤；在所述等离子体的生成期间，增加由直流电源施加到构成所述腔室的一部分或者设置于所述内部空间中的所述电极的负极性的直流电压的绝对值的步骤；确定第一电压值的步骤，其中该第一电压值是执行使负极性的直流电压的绝对值增加的所述步骤的期间电流开始流过所述电极的该时刻的所述电极的电压值；和在所述等离子体的生成期间，将由所述直流电源施加到所述电极的所述直流电压的电压值设定为第二电压值的步骤，其中所述第二电压值具有所述第一电压值与指定值之和的值。
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