[发明专利]一种通过光刻和化学还原法制备透明电磁屏蔽薄膜的方法有效
申请号: | 201910078340.9 | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN109699124B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 王向伟;于志伟;彭锐晖;沙建军;吕永胜;杨高峰;荣先辉 | 申请(专利权)人: | 青岛九维华盾科技研究院有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;H05K3/26;C23C26/00 |
代理公司: | 青岛智地领创专利代理有限公司 37252 | 代理人: | 陈海滨 |
地址: | 266555 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种通过光刻和化学还原法制备透明电磁屏蔽薄膜的方法,包括以下步骤:1)在透明基体上涂布光刻胶,然后进行黄光蚀刻图形化;2)将经黄光蚀刻图形化的表面进行等离子处理,使图形化的表面带有活性官能团;例如羧基或者羟基等;3)将步骤2)所得产品浸泡在多胺溶液中,再进行超声清洗使图形化的表面带有氨基;4)将步骤3)所得产品浸泡到金属盐溶液中,然后加入还原试剂进行导电线路的生长,形成导电网络;5)去除剩余的光刻胶,然后进行超声清洗并进行热处理,即可得到透明电磁屏蔽薄膜。本发明通过图形化线路上引入官能团进而实现晶种的生长制备得到导电网络,最终通过处理得到透明电磁屏蔽薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 通过 光刻 化学 还原法 制备 透明 电磁 屏蔽 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种通过光刻和化学还原法制备透明电磁屏蔽薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在透明基体上涂布光刻胶,然后进行黄光蚀刻图形化;(2)将经黄光蚀刻图形化的表面进行等离子处理,使图形化的表面带有活性官能团;(3)将步骤(2)所得产品浸泡在多胺溶液中,再进行超声清洗使图形化的表面带有氨基;(4)将步骤(3)所得产品浸泡到金属盐溶液中,然后加入还原试剂进行导电线路的生长,形成导电网络;(5)去除剩余的光刻胶,然后进行超声清洗并进行热处理,即可得到透明电磁屏蔽薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛九维华盾科技研究院有限公司,未经青岛九维华盾科技研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910078340.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。