[发明专利]量子点图案化薄膜的制备方法及图案化薄膜在审
| 申请号： | 201910080463.6 | 申请日： | 2019-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN111490144A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 施立甫;钟海政;刘瑞扩;孟令海;江峰 | 申请（专利权）人： | 致晶科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H01L27/15 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 王惠 |
| 地址： | 100083 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种量子点图案化薄膜的制备方法，至少包括步骤：(1)获得成膜溶液S1；(2)获得用于图案化的溶液S2；(3)在基板上获得由成膜溶液S1制备的薄膜；(4)将溶液S2转移至步骤(3)中所述薄膜的像素位点上，得到所述量子点图案化薄膜；其中，所述溶液S2中含有图案化溶质；所述图案化溶质包括量子点、钙钛矿量子点前驱体中的至少一种。该方法操作简便，成本低廉，适用于工业生产，可以实现大面积量子点图案化，并且由本申请所制备的图案化薄膜可以有效地隔绝水氧，且耐化学腐蚀，具有较高的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 图案 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于致晶科技（北京）有限公司，未经致晶科技（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910080463.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
