[发明专利]曝光装置及曝光方法在审
| 申请号： | 201910082883.8 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN109581828A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 王坦 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;王中华 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法。所述曝光装置包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率，通过设置曲面的基板载台使得基板置于载台上后产生与光罩相同的形变，从而补偿因光罩形变造成的曝光偏差，提升曝光的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 基板 基板载台 承载框 曝光装置 形变 曝光 承载 曲率 曝光偏差 均一性 凹陷 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括基板载台(10)及设于所述基板载台上方的光罩承载框(20)；所述基板载台(10)用于承载待曝光的基板(100)，所述光罩承载框(20)用于承载光罩(200)，所述基板载台(10)呈往远离所述光罩承载框(20)的方向凹陷的曲面，使得基板(100)置于所述基板载台(10)上时，具有与置于所述光罩承载框(20)中的光罩(200)相同的形变曲率。
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