[发明专利]分割预定线的检测方法在审
申请号: | 201910084936.X | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN110120356A | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 田篠文照;井谷博之 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01S15/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 乔婉;于靖帅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供分割预定线的检测方法,能够降低伴随着加工的切削屑附着于器件芯片的可能性。分割预定线的检测方法对用于将具有被树脂密封的多个器件芯片的半导体装置按照每个器件芯片进行单片化的分割预定线进行检测,该分割预定线的检测方法具有保持步骤(ST1)、超声波测量步骤(ST2)以及检测步骤(ST3)。在保持步骤中,将半导体装置保持于保持工作台。在超声波测量步骤中,一边使保持工作台所保持的半导体装置和作为超声波照射单元发挥功能的超声波探头按照规定的间隔在水平方向上相对移动,一边对半导体装置的规定的厚度部分照射超声波,并对反射回波进行测量。在检测步骤中,根据反射回波的分布对分割预定线进行检测。 | ||
搜索关键词: | 分割预定线 检测 半导体装置 超声波测量 反射回波 器件芯片 工作台 超声波照射单元 超声波探头 多个器件 树脂密封 相对移动 超声波 单片化 切削屑 附着 照射 测量 芯片 加工 | ||
【主权项】:
1.一种分割预定线的检测方法,对用于将具有被树脂密封的多个器件芯片的半导体装置按照每个该器件芯片进行单片化的分割预定线进行检测,其特征在于,该分割预定线的检测方法具有如下的步骤:保持步骤,将该半导体装置保持于保持工作台;超声波测量步骤,一边使该保持工作台所保持的该半导体装置和超声波照射单元按照规定的间隔在水平方向上相对移动,一边对该半导体装置的规定的厚度部分照射超声波,并对反射回波进行测量;以及检测步骤,根据该反射回波的分布对该分割预定线进行检测。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造