[发明专利]一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用有效
申请号: | 201910088109.8 | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN111487844B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 胡夕伦;吴向龙;闫宝华;肖成峰 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 陈桂玲 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及光刻板清洗领域,具体涉及一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用,一种光刻版表面损伤修复溶液包括重铬酸钾、水溶性铬盐、浓硫酸和水;光刻版表面损伤修复溶液的修复方法包括如下步骤:(1)将所述修复溶液加热并同时搅拌后,静置;(2)将光刻版放入所述修复溶液中浸泡并超声;(3)冲洗光刻板;(4)干燥光刻板;(5)吹干光刻板。修复溶液配置和使用方法简单,成本低廉。该修复溶液对光刻版表面嵌入颗粒物、硌伤等能起到良好的修复作用,清洗后的光刻版表面光鲜、平整,同时又不导致光刻版铬镀层厚度显著下降。保证了后续作业的光刻质量,有利于提升产品质量,同时降低了由于频繁更换新光刻版造成的损失。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 表面 损伤 修复 溶液 及其 应用 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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