[发明专利]一种DMF插层-剥离钠基蒙脱石超薄纳米片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910090329.4 申请日: 2019-01-30
公开(公告)号: CN109650400B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 严春杰;潘玉凤;宋怀兵;周森;刘意;周云飞 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: C01B33/44 分类号: C01B33/44;C01B33/40;B82Y40/00
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 代理人: 王颖
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种DMF插层‑剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,包括以下步骤:称取钙基蒙脱石分散在乙醇和水的混合溶液中,配制成钙基蒙脱石悬浮液;向所述钙基蒙脱石悬浮液中加入无水碳酸钠,球磨后老化,得到固液混合物;对所述固液混合物进行离心分离,得到固体物,洗涤、干燥,即得到钠基蒙脱石;将所述钠基蒙脱石分散在N,N‑二甲基甲酰胺中,磁力搅拌的同时进行超声振荡,使钠基蒙脱石均匀分散在N,N‑二甲基甲酰胺中,即得到DMF插层‑剥离钠基蒙脱石超薄纳米片。本发明提供的方法通过N,N‑二甲基甲酰胺溶剂辅助液相超声剥离,可以将钠基蒙脱石制备成平均厚度为1‑2nm的单层或少层的超薄二维蒙脱石纳米片,为矿物材料的吸附应用提供了新思路。
搜索关键词: 一种 dmf 剥离 钠基蒙脱石 超薄 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种DMF插层‑剥离钠基蒙脱石超薄纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,称取钙基蒙脱石分散在乙醇和水的混合溶液中,配制成钙基蒙脱石悬浮液;S2,向所述钙基蒙脱石悬浮液中加入无水碳酸钠,球磨后老化,得到固液混合物;S3,对所述固液混合物进行离心分离,得到固体物,洗涤、干燥,即得到钠基蒙脱石;S4,将所述钠基蒙脱石分散在N,N‑二甲基甲酰胺中,磁力搅拌的同时进行超声振荡,使钠基蒙脱石均匀分散在N,N‑二甲基甲酰胺中,即得到DMF插层‑剥离钠基蒙脱石超薄纳米片。
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