[发明专利]应用于光刻的光瞳相位优化方法

摘要

本发明提供一种应用于光刻的光瞳相位优化方法，将光瞳相位分布作为优化变量，扩大了优化自由度，因此，本发明能够进一步降低光刻成像误差，提高光刻成像质量；同时，本发明将目标函数构造为各视场点成像保真度函数的平均值，而各视场点成像保真度函数与各视场对应的图形像差有关，从而在优化过程中综合考虑了光刻物镜的全视场像差信息，因此，本发明优化得到的光瞳相位分布，不只适用于特定视场点的光刻成像，而且适用于全视场光刻成像；由此可见，本发明有助于提高实际工况中的三维掩模和含有像差的大视场光刻物镜的全视场光刻成像保真度，提高光刻工艺稳定性。

主权项

1.一种应用于光刻的光瞳相位优化方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：获取光源图形和掩模图形对应的三维掩模衍射频谱，并初始化光瞳相位分布；S2：构造目标函数D其中，为目标图形中坐标为(x,y)的像素点的像素值，Z(x,y,W,W_abe,m)表示光刻胶中成像坐标为(x,y)的像素点的像素值，F_m为光刻物镜第m个视场点对应的成像保真度函数，W_abe,m为光刻物镜第m个视场点对应的像差，k为光刻物镜视场点的个数，其中，光刻胶中成像各像素点的像素值利用矢量成像模型通过步骤S1中的三维掩模衍射频谱、光瞳相位分布W和光刻物镜像差W_abe,m计算得到；S3：将光瞳相位分布W进行泽尼克多项式展开，得到其中，Γ_i是第i项泽尼克多项式，c_i为第i项泽尼克多项式对应的泽尼克系数，i＝1,2,…,37；S4：采用共轭梯度法不断更新泽尼克系数c_i，然后计算当前泽尼克系数c_i对应的光瞳相位分布W和目标函数D，直到目标函数D的值小于预定阈值或更新泽尼克系数c_i的次数达到预定上限值，则将当前的光瞳相位分布W确定为经过优化后的光瞳相位分布。