[发明专利]调节叶片的固定方法、显影设备、显影剂承载构件及磁体有效
申请号: | 201910100732.0 | 申请日: | 2019-01-31 |
公开(公告)号: | CN110133976B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 高桥真史;潮见友洋;津留崎辉明;古贺俊一;有泉修;铃木秀明 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军;李艳丽 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供调节叶片的固定方法、显影设备、显影剂承载构件及磁体。基于输入的关于多个磁极当中的、当将调节叶片固定到显影框架构件时最靠近所述调节叶片定位的预定磁极的磁通密度的局部最大峰值的信息,确定由所述显影框架构件支撑的所述显影剂承载构件与固定到所述显影框架构件的所述调节叶片之间的间隙的目标值,所述多个磁极包括在固定地定位在显影剂承载构件内部并且被构造为生成用于使显影剂被所述显影剂承载构件承载的磁场的磁体中。 | ||
搜索关键词: | 调节 叶片 固定 方法 显影 设备 显影剂 承载 构件 磁体 | ||
【主权项】:
1.一种调节叶片的固定方法,用于将调节叶片固定到显影框架构件,所述调节叶片与显影剂承载构件相对地定位并且被构造为调节由所述显影剂承载构件承载的显影剂的量,所述显影剂承载构件由所述显影框架构件支撑并且被构造为承载所述显影剂以使形成在图像承载构件上的静电潜像显影,所述固定方法包括如下步骤:确定步骤,基于输入的关于多个磁极当中的、当将所述调节叶片固定到所述显影框架构件时最靠近所述调节叶片定位的预定磁极的磁通密度的局部最大峰值的信息,确定由所述显影框架构件支撑的所述显影剂承载构件与固定到所述显影框架构件的所述调节叶片之间的间隙的目标值,所述多个磁极包括在固定地定位在所述显影剂承载构件内部并且被构造为生成用于使所述显影剂被所述显影剂承载构件承载的磁场的磁体中;以及固定步骤,将所述调节叶片固定到所述显影框架构件,使得所述间隙在所述显影剂承载构件的纵向方向上被设置在所述确定步骤中确定的间隙的目标值处。
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