[发明专利]一种全隔离结构9管SRAM存储单元及其读写操作方法有效

专利信息
申请号: 201910101132.6 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN109859791B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 谢成民;李立;黄桂龙 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: G11C16/26 分类号: G11C16/26;G11C16/10;G11C16/04
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种全隔离结构9管SRAM存储单元及其读写操作方法,存储单元在传统6管SRAM存储单元基础上,增加了读通路隔离管,采用独立的读位线和写位线,实现读写通路分离,增加了写通路列选通管和读通路列选通管。由于增加了列字线对访问的存储单元进行精确控制,使读写过程均不会影响其他不需访问的存储单元,由于通过增加读隔离管和专用的读位线和写位线,可实现高噪声容限设计;由于存储单元噪声容限的提高,电路对电源电压变动的敏感性降低,存储状态更加稳定,因此可实现低电压操作;由于读写访问精确至对应存储单元,无需像现有SRAM电路架构中的全行工作,因此,能够使电路动态功耗有效降低。
搜索关键词: 一种 隔离 结构 sram 存储 单元 及其 读写 操作方法
【主权项】:
1.一种全隔离结构9管SRAM存储单元,其特征在于:包括由交叉耦合的一对反相器与写访问管T5、读访问管T6构成的6管SRAM存储单元,所述的反相器分别由晶体管T1、T2以及晶体管T3、T4组成;写访问管T5的栅极连接写行位线WRWL,晶体管T1、T2的栅极与写访问管T5之间设置写访问管T7,写访问管T5的漏/源极分别连接写专用位线WBL与写访问管T7的漏/源极,写访问管T7栅极连接列字线CWL;读访问管T6的栅极连接读行字线RRWL,晶体管T3、T4的栅极与读访问管T6之间设置读隔离管T9,读访问管T6的漏/源极分别连接读专用位线RBL与读隔离管T9的漏极,读隔离管T9的源极连接下拉管T8的漏极,下拉管T8的源极接地,下拉管T8的栅极连接列字线CWL。
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