[发明专利]带表面保护膜的光学层叠体在审
| 申请号： | 201910103207.4 | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110109211A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 新美健二郎;中田美惠;森永总司;高山侃也 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;G02B1/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面保护膜的高速剥离性优异、并且可显著地抑制气泡、外观优异的带表面保护膜的光学层叠体。本发明的带表面保护膜的光学层叠体具有光学层叠体和表面保护膜。表面保护膜具有基材及粘合剂层、且通过粘合剂层可剥离地贴合于光学层叠体。表面保护膜的粘合剂层的厚度为2μm以下，且粘合剂层的表面粗糙度Sa1为30nm以下。光学层叠体的与粘合剂层接触的面的表面粗糙度Sa2为30nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学层叠体 粘合剂层 表面保护膜 保护膜 带表面 表面粗糙度 剥离性 可剥离 基材 贴合 | ||
【主权项】：
1.一种带表面保护膜的光学层叠体，其具有光学层叠体和表面保护膜，其中，该表面保护膜具有基材及粘合剂层，且通过该粘合剂层可剥离地贴合于该光学层叠体，该表面保护膜的粘合剂层的厚度为2μm以下，且该粘合剂层的表面粗糙度Sa1为30nm以下，该光学层叠体的与该粘合剂层接触的面的表面粗糙度Sa2为30nm以下。
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