[发明专利]一种高发射率黑色阳极铝板及其制备方法有效
| 申请号： | 201910104563.8 | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110106540B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 迪迪·埃莫吴;张卫宁;罗伯特·阿特;王中秋 | 申请（专利权）人： | 腾辉电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/08 | 分类号： | C25D11/08;C25D11/22;C25D11/16;C25D7/00 |
| 代理公司： | 上海统摄知识产权代理事务所(普通合伙) 31303 | 代理人： | 辛自豪 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高发射率黑色阳极铝板及其制备方法，方法为：先对铝板的外观面进行粗化处理使其粗糙度Rz达到5～15μm，再通过电化学氧化和着色的方法在该外观面上原位生成厚度均匀且为10～20μm的黑色阳极氧化膜层，制得的高发射率黑色阳极铝板具有复合层结构，主要由相邻的铝板层和黑色阳极氧化膜层组成，黑色阳极铝板的发射率为0.50～0.99，总传热辐射为12.5～13.4W。本发明方法处理工艺简单，成本低，制得的黑色阳极铝板发射率高，散热性能好，克服了现有技术的阳极铝板发射率低和散热性能差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 发射 黑色 阳极 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高发射率黑色阳极铝板的制备方法，其特征是：先对铝板的外观面进行粗化处理使其粗糙度Rz达到5～15μm，再通过电化学氧化和着色的方法在该外观面上原位生成厚度均匀且为10～20μm的黑色阳极氧化膜层。
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