[发明专利]用于制造逆反射制品的基材在审
| 申请号： | 201910113764.4 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110133777A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | S·R·查普曼;E·盖里西亚;F·吴 | 申请（专利权）人： | 艾利丹尼森公司 |
| 主分类号： | G02B5/124 | 分类号： | G02B5/124;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 | 代理人： | 卓霖;许向彤 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于制造逆反射制品的基材。所述基材包括：包含棱镜元件阵列的表面；一个或多个凹部，所述一个或多个凹部中的每个凹部至少部分地由参考边来限定；和基部，所述基部包括唇缘，所述唇缘限定所述基部的周边。还公开了用作模具的拼接制品和由模具制造的逆反射制品。 | ||
| 搜索关键词： | 逆反射制品 凹部 基部 基材 唇缘 棱镜元件阵列 模具制造 参考边 拼接 模具 制造 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造逆反射制品的基材，所述基材包括：包含棱镜元件阵列的表面；一个或多个凹部，所述一个或多个凹部中的每个凹部至少部分地由参考边来限定；和基部，所述基部包括唇缘，所述唇缘限定所述基部的周边。
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