[发明专利]曝光装置、移动体装置以及器件制造方法在审

专利信息
申请号: 201910116553.6 申请日: 2013-11-20
公开(公告)号: CN109976103A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 宫川智树 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;沈静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供曝光装置、移动体装置以及器件制造方法。按照编码器系统的计测结果来控制磁悬浮型平面电机即载物台控制系统(124)而对晶片台(WST)进行驱动控制,并且在检测出晶片台(WST)的驱动控制的异常的情况下,控制载物台驱动系统(124),对晶片台(WST)施加铅垂方向的推力。由此,能够避免晶片台(WST)的纵摇,能够防止晶片台(WST)(特别是,设置于载物台上表面的刻度)以及配置于其正上方的构造物(特别是编码器头等)的破损。
搜索关键词: 晶片台 移动体装置 曝光装置 器件制造 驱动控制 载物台控制系统 载物台上表面 编码器系统 载物台驱动 计测结果 平面电机 铅垂方向 编码器 磁悬浮 构造物 纵摇 破损 施加 检测 配置
【主权项】:
1.一种移动体装置,其特征在于,具备:基座部件;移动体,其能够在所述基座部件上与规定面平行地进行至少二维移动;磁悬浮方式的平面电机,其具有设置于所述基座部件的定子和设置于所述移动体的可动元件;以及控制装置,其在所述移动体加速和减速时,以使所述平面电机发出从所述移动体朝向所述基座部件的方向的驱动力的方式控制所述平面电机。
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