[发明专利]一种具有中空褶皱结构的电极的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910119033.0 申请日: 2019-02-18
公开(公告)号: CN109830698B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 卢向阳;田云;邓奇 申请(专利权)人: 湖南农业大学
主分类号: H01M4/88 分类号: H01M4/88;H01M4/96;H01M8/18;C12N1/14;C12R1/685;C12R1/68
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410128*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种具有中空褶皱结构的电极的制备方法,所述方法是将真菌接种到碳素电极的内表面及外表面培养,再利用高温退火的方法得到具有中空褶皱结构的电极。该法利用真菌修饰碳素电极材料的方法,大大提高了电极电催化活性,提升了电池能量效率。丰富的异碳元素为钒离子提供反应位点,大面积褶皱结构的存在为反应物种提供大量有效的反应面积,极大提高了电极的反应活性,表现出优异的能量效率。
搜索关键词: 一种 具有 中空 褶皱 结构 电极 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有中空褶皱结构的电极的制备方法,其特征在于,所述方法是将真菌接种到碳素电极的内表面及外表面培养,再利用高温退火的方法得到具有中空褶皱结构的电极。
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