[发明专利]紫外发光二极管外延片及其制造方法有效
申请号: | 201910124859.6 | 申请日: | 2019-02-20 |
公开(公告)号: | CN110047979B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 刘旺平;乔楠;吕蒙普;胡加辉;李鹏 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种紫外发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述紫外发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、未掺杂的GaN层、N型层、多量子阱层、电子阻挡层、P型层和P型接触层,所述多量子阱层由多个周期的超晶格结构组成,每个超晶格结构均包括依次层叠的GaN阱层和BAlN垒层。与现有的GaN/AlGaN异质结相比,GaN/BAlN异质结的价带偏移更小,导带偏移更大,能够更好的将电子限制在GaN阱层内,并能提高空穴的迁移,且GaN/BAlN异质结界面具有高浓度的二维电子气,能够提高载流子的横向迁移能力,最终提升电子、空穴的辐射复合效率,从而提高紫外LED的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 紫外 发光二极管 外延 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种紫外发光二极管外延片,所述发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、未掺杂的GaN层、N型层、多量子阱层、电子阻挡层、P型层和P型接触层,其特征在于,所述多量子阱层由多个周期的超晶格结构组成,每个超晶格结构均包括依次层叠的GaN阱层和BAlN垒层。
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