[发明专利]掩膜板支撑机构、对位装置、对位方法有效
| 申请号： | 201910126392.9 | 申请日： | 2019-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN109763095B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 刘金彪;饶勇;谭瑞;李有亮;王政 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最大高度。相应地，本发明还提供一种对位装置及对位方法。本发明能够提高待蒸镀的基板与掩膜板的对位精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 支撑 机构 对位 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板支撑机构，用于支撑掩膜板，其特征在于，所述掩膜板支撑机构包括：基底和设置在基底上的多个具有伸缩性的支撑结构，每个所述支撑结构具有最大高度和最小高度，且处于最大高度的所述支撑结构能够在压力作用下被压缩至最小高度；每个支撑结构的最小高度相同；对于任意两个支撑结构，离所述基底中心较远的支撑结构的最大高度不大于离所述基底中心较近的支撑结构的最大高度。
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