[发明专利]真空装置

摘要

本发明提供了一种真空装置及其排气方法，包括工作腔室，用于加工零件，工作腔室连通排气阀；初抽泵，其吸气口与工作腔室连通；辅助腔室，其与工作腔室连通，辅助腔室和工作腔室之间通过第一通道和第二通道连通，且初抽泵设于第二通道上；分子泵，其吸气口与辅助腔室连通；第一气阀，设于第一通道上；第二气阀，设于初抽泵和工作腔室之间的第二通道上；第三气阀，设于初抽泵和辅助腔室之间的第二通道上。本发明提供的真空装置，在更换零件时，工作腔室和辅助腔室互不连通，辅助腔室的真空度保持不变，使得分子泵可以在此真空度下继续工作，避免分子泵停机造成的时间浪费，缩短下一次抽真空所需的时间。

主权项

1.真空装置，其特征在于，包括：工作腔室，用于加工零件，所述工作腔室连通有用于破除真空的排气阀；初抽泵，所述初抽泵的吸气口与所述工作腔室连通；辅助腔室，其与所述工作腔室连通，所述辅助腔室和所述工作腔室之间通过第一通道及第二通道连通，且所述初抽泵的吸气口设于所述第二通道上；分子泵，所述分子泵的吸气口所述辅助腔室连通；第一气阀，设于所述第一通道上，用于控制所述第一通道的开闭；第二气阀，设于所述初抽泵的吸气口和所述工作腔室之间的第二通道上，用于控制所述初抽泵的吸气口和所述辅助腔室之间的通路；第三气阀，设于所述初抽泵的吸气口和所述辅助腔室之间的第二通道上，用于控制所述工作腔室和所述初抽泵的吸气口之间的通路。