[发明专利]一种掩模对准传感器和光刻机在审
| 申请号： | 201910132647.2 | 申请日： | 2019-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN111610699A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 王丽;顾俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩模对准传感器和光刻机，掩模对准传感器，包括：标记板，包括标记板底壁和标记板侧壁，所述标记板底壁与所述标记板侧壁围成第一凹槽；传感器和传感器板，位于所述第一凹槽内；所述传感器位于所述传感器板上，所述传感器位于所述传感器板与所述标记板底壁之间；前放板，位于所述传感器板远离所述标记板底壁一侧；屏蔽部件，所述屏蔽部件形成一腔室，所述传感器、传感器板以及所述前放板位于所述腔室内；所述标记板底壁包括透明标记区，所述透明标记区正对所述传感器的感应面，所述屏蔽部件设置有开口结构，所述开口结构露出所述透明标记区。本发明实施例提供一种掩模对准传感器和光刻机，以实现提高掩模对准精度和套刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 传感器 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910132647.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于三相四线制的供电系统
- 下一篇：音频拼接方法、装置及存储介质
