[发明专利]用于分配系统的具有台阶式涡流室的分配头

摘要

本发明涉及一种用于分配系统的具有台阶式涡流室的分配头和对产品进行分配的分配系统，属于喷射装置领域。该分配头特别用于对产品进行分配的系统，分配头包括：‑喷射喷嘴，包括分配孔和开口到分配孔的涡流室，涡流室包括会聚部分，涡流室沿着轴线在产品的移位方向上的上游端部和下游端部之间延伸，和‑砧座，包括设有周壁的芯部，芯部容纳在涡流室内部，周壁和会聚部分形成至少一个流体路径，产品在流体路径中流通，会聚部分包括喷嘴的内壁，内壁和/或芯部的周壁设有多个台阶，每个台阶由横向壁和纵向壁限定出，横向壁在正割于轴线的平面中延伸，纵向壁大致平行于轴线，台阶在流体路径中形成障碍物。

主权项

1.分配头(1)，所述分配头特别用于对产品进行分配的分配系统，其特征在于，所述分配头(1)包括：‑喷射喷嘴(14)，所述喷射喷嘴包括分配孔(19)和开口到所述分配孔(19)的涡流室(20)，所述涡流室(20)包括会聚部分(37)，所述涡流室沿着轴线(X)在沿所述产品的移位方向的上游端部(21)和下游端部(22)之间延伸，和‑砧座(8)，所述砧座包括设有周壁(36)的芯部(9)，所述芯部(9)容纳在所述涡流室(20)内部，所述周壁(36)和所述会聚部分(37)形成至少一个流体路径，所述产品在所述至少一个流体路径中流通，所述会聚部分(37)包括所述喷嘴(14)的内壁(35)，所述内壁(35)和/或所述芯部的所述周壁(36)设有多个台阶(30)，每个台阶(30)由横向壁(31)和纵向壁(32)限定出，所述横向壁在正割于所述轴线(X)的平面中延伸，所述纵向壁大致平行于所述轴线，所述台阶(30)在所述流体路径中形成障碍物，所述喷嘴(14)包括所述涡流室(20)的至少一个供应通道(25)，所述供应通道切向地开口到所述涡流室(20)。